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脉冲激光沉积系统
点击次数:90 发布时间:2020/12/21 10:42:10
公司名称:上海非利加实业有限公司
型 号:Pioneer240,180, 120,80
生产地址:中国大陆
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简单介绍:
详细内容
Pioneer240,180, 120,80脉冲激光沉积系统
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点:
PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
PLD节省成本:束激光能够供多个空系统使用。
PLD高*效率:在10至15分钟,可生长*高质量的样品。
PLD可升:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
PLD 是种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成系列具有独特功能的纳*米结构和纳*米颗粒。另外,PLD 是种“ 数字” 技术,在纳*米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。
Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
Pioneer 系列PLD 系统是研发域为广泛使用的商业化系统
Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案
产品参数
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 技术参数:
型号
Pioneer240
Pioneer180
Pioneer120
Pioneer80
大wafer直径
8”
6”
2”
1”
大靶材数量
6个1” 或4个2”
6个1” 或4个2”
6个1” 或3个2”
4个1”
压力(Torr)
<10-8
<10-8
<10-8
<10-8
空室直径
24”
18”
12”
8”
基片加热器
8”,旋转
6”,旋转
3”, 旋转
2”,旋转
高样品温度
850 ° C
850 ° C
950 ° C
950 ° C
Turbo泵抽速
(liters/sec)
800
260
260
70
计算机控制
包括
包括
包括
包括
基片旋转
包括
包括
-
-
基片预空室
包括
选件
选件
-
扫描激光束系统
包括
选件
-
-
靶预空室
包括
-
-
-
IBAD离子束辅助沉积
选件
选件
选件
-
CCS连续组成扩展
选件
选件
-
-
高压RHEED
选件
-
-
-
520 liters/sec泵
a/n
选件
-
-
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓*越经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得zui佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳*米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的zui大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的空泵,消*除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得zui佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到zui优的沉积条件。
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点:
PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
PLD节省成本:束激光能够供多个空系统使用。
PLD高*效率:在10至15分钟,可生长*高质量的样品。
PLD可升:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
PLD 是种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成系列具有独特功能的纳*米结构和纳*米颗粒。另外,PLD 是种“ 数字” 技术,在纳*米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。
Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
Pioneer 系列PLD 系统是研发域为广泛使用的商业化系统
Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案
产品参数
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 技术参数:
型号
Pioneer240
Pioneer180
Pioneer120
Pioneer80
大wafer直径
8”
6”
2”
1”
大靶材数量
6个1” 或4个2”
6个1” 或4个2”
6个1” 或3个2”
4个1”
压力(Torr)
<10-8
<10-8
<10-8
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空室直径
24”
18”
12”
8”
基片加热器
8”,旋转
6”,旋转
3”, 旋转
2”,旋转
高样品温度
850 ° C
850 ° C
950 ° C
950 ° C
Turbo泵抽速
(liters/sec)
800
260
260
70
计算机控制
包括
包括
包括
包括
基片旋转
包括
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-
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基片预空室
包括
选件
选件
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扫描激光束系统
包括
选件
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靶预空室
包括
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IBAD离子束辅助沉积
选件
选件
选件
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CCS连续组成扩展
选件
选件
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高压RHEED
选件
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-
520 liters/sec泵
a/n
选件
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产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓*越经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得zui佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳*米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的zui大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的空泵,消*除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得zui佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到zui优的沉积条件。 脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点:
PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
PLD节省成本:束激光能够供多个空系统使用。
PLD高*效率:在10至15分钟,可生长*高质量的样品。
PLD可升:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
PLD 是种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成系列具有独特功能的纳*米结构和纳*米颗粒。另外,PLD 是种“ 数字” 技术,在纳*米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。
Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
Pioneer 系列PLD 系统是研发域为广泛使用的商业化系统
Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案
产品参数
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 技术参数:
型号
Pioneer240
Pioneer180
Pioneer120
Pioneer80
大wafer直径
8”
6”
2”
1”
大靶材数量
6个1” 或4个2”
6个1” 或4个2”
6个1” 或3个2”
4个1”
压力(Torr)
<10-8
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空室直径
24”
18”
12”
8”
基片加热器
8”,旋转
6”,旋转
3”, 旋转
2”,旋转
高样品温度
850 ° C
850 ° C
950 ° C
950 ° C
Turbo泵抽速
(liters/sec)
800
260
260
70
计算机控制
包括
包括
包括
包括
基片旋转
包括
包括
-
-
基片预空室
包括
选件
选件
-
扫描激光束系统
包括
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靶预空室
包括
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IBAD离子束辅助沉积
选件
选件
选件
-
CCS连续组成扩展
选件
选件
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高压RHEED
选件
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520 liters/sec泵
a/n
选件
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产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓*越经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得zui佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳*米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的zui大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的空泵,消*除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得zui佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到zui优的沉积条件。 脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点:
PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
PLD节省成本:束激光能够供多个空系统使用。
PLD高*效率:在10至15分钟,可生长*高质量的样品。
PLD可升:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
PLD 是种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成系列具有独特功能的纳*米结构和纳*米颗粒。另外,PLD 是种“ 数字” 技术,在纳*米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。
Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
Pioneer 系列PLD 系统是研发域为广泛使用的商业化系统
Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案
产品参数
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 技术参数:
型号
Pioneer240
Pioneer180
Pioneer120
Pioneer80
大wafer直径
8”
6”
2”
1”
大靶材数量
6个1” 或4个2”
6个1” 或4个2”
6个1” 或3个2”
4个1”
压力(Torr)
<10-8
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空室直径
24”
18”
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8”
基片加热器
8”,旋转
6”,旋转
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2”,旋转
高样品温度
850 ° C
850 ° C
950 ° C
950 ° C
Turbo泵抽速
(liters/sec)
800
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计算机控制
包括
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基片预空室
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扫描激光束系统
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靶预空室
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IBAD离子束辅助沉积
选件
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CCS连续组成扩展
选件
选件
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高压RHEED
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520 liters/sec泵
a/n
选件
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脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓*越经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得zui佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳*米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的zui大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的空泵,消*除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得zui佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到zui优的沉积条件。 脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点:
PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
PLD节省成本:束激光能够供多个空系统使用。
PLD高*效率:在10至15分钟,可生长*高质量的样品。
PLD可升:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
PLD 是种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成系列具有独特功能的纳*米结构和纳*米颗粒。另外,PLD 是种“ 数字” 技术,在纳*米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。
Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
Pioneer 系列PLD 系统是研发域为广泛使用的商业化系统
Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案
产品参数
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 技术参数:
型号
Pioneer240
Pioneer180
Pioneer120
Pioneer80
大wafer直径
8”
6”
2”
1”
大靶材数量
6个1” 或4个2”
6个1” 或4个2”
6个1” 或3个2”
4个1”
压力(Torr)
<10-8
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空室直径
24”
18”
12”
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基片加热器
8”,旋转
6”,旋转
3”, 旋转
2”,旋转
高样品温度
850 ° C
850 ° C
950 ° C
950 ° C
Turbo泵抽速
(liters/sec)
800
260
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计算机控制
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基片旋转
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基片预空室
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扫描激光束系统
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IBAD离子束辅助沉积
选件
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CCS连续组成扩展
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高压RHEED
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520 liters/sec泵
a/n
选件
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产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓*越经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得zui佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳*米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的zui大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的空泵,消*除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得zui佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到zui优的沉积条件。 脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点:
PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
PLD节省成本:束激光能够供多个空系统使用。
PLD高*效率:在10至15分钟,可生长*高质量的样品。
PLD可升:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
PLD 是种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成系列具有独特功能的纳*米结构和纳*米颗粒。另外,PLD 是种“ 数字” 技术,在纳*米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。
Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
Pioneer 系列PLD 系统是研发域为广泛使用的商业化系统
Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案
产品参数
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 技术参数:
型号
Pioneer240
Pioneer180
Pioneer120
Pioneer80
大wafer直径
8”
6”
2”
1”
大靶材数量
6个1” 或4个2”
6个1” 或4个2”
6个1” 或3个2”
4个1”
压力(Torr)
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空室直径
24”
18”
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基片加热器
8”,旋转
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高样品温度
850 ° C
850 ° C
950 ° C
950 ° C
Turbo泵抽速
(liters/sec)
800
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计算机控制
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扫描激光束系统
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IBAD离子束辅助沉积
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CCS连续组成扩展
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高压RHEED
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520 liters/sec泵
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脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓*越经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得zui佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳*米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的zui大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的空泵,消*除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得zui佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到zui优的沉积条件。 脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点:
PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
PLD节省成本:束激光能够供多个空系统使用。
PLD高*效率:在10至15分钟,可生长*高质量的样品。
PLD可升:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
PLD 是种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成系列具有独特功能的纳*米结构和纳*米颗粒。另外,PLD 是种“ 数字” 技术,在纳*米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。
Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
Pioneer 系列PLD 系统是研发域为广泛使用的商业化系统
Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案
产品参数
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 技术参数:
型号
Pioneer240
Pioneer180
Pioneer120
Pioneer80
大wafer直径
8”
6”
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大靶材数量
6个1” 或4个2”
6个1” 或4个2”
6个1” 或3个2”
4个1”
压力(Torr)
<10-8
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空室直径
24”
18”
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基片加热器
8”,旋转
6”,旋转
3”, 旋转
2”,旋转
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850 ° C
850 ° C
950 ° C
950 ° C
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(liters/sec)
800
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包括
包括
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包括
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IBAD离子束辅助沉积
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产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓*越经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得zui佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳*米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的zui大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的空泵,消*除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得zui佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到zui优的沉积条件。 脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点:
PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
PLD节省成本:束激光能够供多个空系统使用。
PLD高*效率:在10至15分钟,可生长*高质量的样品。
PLD可升:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
PLD 是种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成系列具有独特功能的纳*米结构和纳*米颗粒。另外,PLD 是种“ 数字” 技术,在纳*米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。
Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
Pioneer 系列PLD 系统是研发域为广泛使用的商业化系统
Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案
产品参数
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 技术参数:
型号
Pioneer240
Pioneer180
Pioneer120
Pioneer80
大wafer直径
8”
6”
2”
1”
大靶材数量
6个1” 或4个2”
6个1” 或4个2”
6个1” 或3个2”
4个1”
压力(Torr)
<10-8
<10-8
<10-8
<10-8
空室直径
24”
18”
12”
8”
基片加热器
8”,旋转
6”,旋转
3”, 旋转
2”,旋转
高样品温度
850 ° C
850 ° C
950 ° C
950 ° C
Turbo泵抽速
(liters/sec)
800
260
260
70
计算机控制
包括
包括
包括
包括
基片旋转
包括
包括
-
-
基片预空室
包括
选件
选件
-
扫描激光束系统
包括
选件
-
-
靶预空室
包括
-
-
-
IBAD离子束辅助沉积
选件
选件
选件
-
CCS连续组成扩展
选件
选件
-
-
高压RHEED
选件
-
-
-
520 liters/sec泵
a/n
选件
-
-
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓*越经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得zui佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳*米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的zui大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的空泵,消*除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得zui佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到zui优的沉积条件。 脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点:
PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
PLD节省成本:束激光能够供多个空系统使用。
PLD高*效率:在10至15分钟,可生长*高质量的样品。
PLD可升:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
PLD 是种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成系列具有独特功能的纳*米结构和纳*米颗粒。另外,PLD 是种“ 数字” 技术,在纳*米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。
Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
Pioneer 系列PLD 系统是研发域为广泛使用的商业化系统
Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案
产品参数
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 技术参数:
型号
Pioneer240
Pioneer180
Pioneer120
Pioneer80
大wafer直径
8”
6”
2”
1”
大靶材数量
6个1” 或4个2”
6个1” 或4个2”
6个1” 或3个2”
4个1”
压力(Torr)
<10-8
<10-8
<10-8
<10-8
空室直径
24”
18”
12”
8”
基片加热器
8”,旋转
6”,旋转
3”, 旋转
2”,旋转
高样品温度
850 ° C
850 ° C
950 ° C
950 ° C
Turbo泵抽速
(liters/sec)
800
260
260
70
计算机控制
包括
包括
包括
包括
基片旋转
包括
包括
-
-
基片预空室
包括
选件
选件
-
扫描激光束系统
包括
选件
-
-
靶预空室
包括
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IBAD离子束辅助沉积
选件
选件
选件
-
CCS连续组成扩展
选件
选件
-
-
高压RHEED
选件
-
-
-
520 liters/sec泵
a/n
选件
-
-
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓*越经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得zui佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳*米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的zui大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的空泵,消*除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得zui佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到zui优的沉积条件。 脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点:
PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
PLD节省成本:束激光能够供多个空系统使用。
PLD高*效率:在10至15分钟,可生长*高质量的样品。
PLD可升:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
PLD 是种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成系列具有独特功能的纳*米结构和纳*米颗粒。另外,PLD 是种“ 数字” 技术,在纳*米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。
Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
Pioneer 系列PLD 系统是研发域为广泛使用的商业化系统
Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案
产品参数
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 技术参数:
型号
Pioneer240
Pioneer180
Pioneer120
Pioneer80
大wafer直径
8”
6”
2”
1”
大靶材数量
6个1” 或4个2”
6个1” 或4个2”
6个1” 或3个2”
4个1”
压力(Torr)
<10-8
<10-8
<10-8
<10-8
空室直径
24”
18”
12”
8”
基片加热器
8”,旋转
6”,旋转
3”, 旋转
2”,旋转
高样品温度
850 ° C
850 ° C
950 ° C
950 ° C
Turbo泵抽速
(liters/sec)
800
260
260
70
计算机控制
包括
包括
包括
包括
基片旋转
包括
包括
-
-
基片预空室
包括
选件
选件
-
扫描激光束系统
包括
选件
-
-
靶预空室
包括
-
-
-
IBAD离子束辅助沉积
选件
选件
选件
-
CCS连续组成扩展
选件
选件
-
-
高压RHEED
选件
-
-
-
520 liters/sec泵
a/n
选件
-
-
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓*越经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得zui佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳*米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的zui大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的空泵,消*除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得zui佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到zui优的沉积条件。 脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点:
PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
PLD节省成本:束激光能够供多个空系统使用。
PLD高*效率:在10至15分钟,可生长*高质量的样品。
PLD可升:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
PLD 是种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成系列具有独特功能的纳*米结构和纳*米颗粒。另外,PLD 是种“ 数字” 技术,在纳*米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。
Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
Pioneer 系列PLD 系统是研发域为广泛使用的商业化系统
Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案
产品参数
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 技术参数:
型号
Pioneer240
Pioneer180
Pioneer120
Pioneer80
大wafer直径
8”
6”
2”
1”
大靶材数量
6个1” 或4个2”
6个1” 或4个2”
6个1” 或3个2”
4个1”
压力(Torr)
<10-8
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空室直径
24”
18”
12”
8”
基片加热器
8”,旋转
6”,旋转
3”, 旋转
2”,旋转
高样品温度
850 ° C
850 ° C
950 ° C
950 ° C
Turbo泵抽速
(liters/sec)
800
260
260
70
计算机控制
包括
包括
包括
包括
基片旋转
包括
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基片预空室
包括
选件
选件
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扫描激光束系统
包括
选件
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靶预空室
包括
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IBAD离子束辅助沉积
选件
选件
选件
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CCS连续组成扩展
选件
选件
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高压RHEED
选件
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-
520 liters/sec泵
a/n
选件
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-
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脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓*越经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得zui佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳*米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的zui大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的空泵,消*除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得zui佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到zui优的沉积条件。 脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点:
PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
PLD节省成本:束激光能够供多个空系统使用。
PLD高*效率:在10至15分钟,可生长*高质量的样品。
PLD可升:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
PLD 是种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成系列具有独特功能的纳*米结构和纳*米颗粒。另外,PLD 是种“ 数字” 技术,在纳*米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。
Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
Pioneer 系列PLD 系统是研发域为广泛使用的商业化系统
Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案
产品参数
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 技术参数:
型号
Pioneer240
Pioneer180
Pioneer120
Pioneer80
大wafer直径
8”
6”
2”
1”
大靶材数量
6个1” 或4个2”
6个1” 或4个2”
6个1” 或3个2”
4个1”
压力(Torr)
<10-8
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空室直径
24”
18”
12”
8”
基片加热器
8”,旋转
6”,旋转
3”, 旋转
2”,旋转
高样品温度
850 ° C
850 ° C
950 ° C
950 ° C
Turbo泵抽速
(liters/sec)
800
260
260
70
计算机控制
包括
包括
包括
包括
基片旋转
包括
包括
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基片预空室
包括
选件
选件
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扫描激光束系统
包括
选件
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靶预空室
包括
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IBAD离子束辅助沉积
选件
选件
选件
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CCS连续组成扩展
选件
选件
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高压RHEED
选件
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-
520 liters/sec泵
a/n
选件
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-
产品介绍
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Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得zui佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳*米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的zui大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的空泵,消*除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得zui佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到zui优的沉积条件。 脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点:
PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
PLD节省成本:束激光能够供多个空系统使用。
PLD高*效率:在10至15分钟,可生长*高质量的样品。
PLD可升:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
PLD 是种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成系列具有独特功能的纳*米结构和纳*米颗粒。另外,PLD 是种“ 数字” 技术,在纳*米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。
Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
Pioneer 系列PLD 系统是研发域为广泛使用的商业化系统
Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案
产品参数
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 技术参数:
型号
Pioneer240
Pioneer180
Pioneer120
Pioneer80
大wafer直径
8”
6”
2”
1”
大靶材数量
6个1” 或4个2”
6个1” 或4个2”
6个1” 或3个2”
4个1”
压力(Torr)
<10-8
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空室直径
24”
18”
12”
8”
基片加热器
8”,旋转
6”,旋转
3”, 旋转
2”,旋转
高样品温度
850 ° C
850 ° C
950 ° C
950 ° C
Turbo泵抽速
(liters/sec)
800
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计算机控制
包括
包括
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基片旋转
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基片预空室
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选件
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扫描激光束系统
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靶预空室
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IBAD离子束辅助沉积
选件
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CCS连续组成扩展
选件
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高压RHEED
选件
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520 liters/sec泵
a/n
选件
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产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓*越经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得zui佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳*米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的zui大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的空泵,消*除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得zui佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到zui优的沉积条件。 脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80
产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点:
PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
PLD节省成本:束激光能够供多个空系统使用。
PLD高*效率:在10至15分钟,可生长*高质量的样品。
PLD可升:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。
PLD 是种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成系列具有独特功能的纳*米结构和纳*米颗粒。另外,PLD 是种“ 数字” 技术,在纳*米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。
Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
Pioneer 系列PLD 系统是研发域为广泛使用的商业化系统
Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案
产品参数
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 技术参数:
型号
Pioneer240
Pioneer180
Pioneer120
Pioneer80
大wafer直径
8”
6”
2”
1”
大靶材数量
6个1” 或4个2”
6个1” 或4个2”
6个1” 或3个2”
4个1”
压力(Torr)
<10-8
<10-8
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空室直径
24”
18”
12”
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基片加热器
8”,旋转
6”,旋转
3”, 旋转
2”,旋转
高样品温度
850 ° C
850 ° C
950 ° C
950 ° C
Turbo泵抽速
(liters/sec)
800
260
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计算机控制
包括
包括
包括
包括
基片旋转
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包括
选件
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扫描激光束系统
包括
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靶预空室
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产品介绍
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓*越经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得zui佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳*米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的zui大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的空泵,消*除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得zui佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到zui优的沉积条件。
更新时间:2024/3/18 12:55:42
标签:Pioneer240 180 120 80脉冲激光沉积系统
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